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膜厚檢測儀
產(chǎn)品介紹
快速測量，僅需1-2s即可完成一次測量
大范圍膜厚測量，可測量膜厚范圍從15nm-70μm
常規(guī)操作只需點擊一個按鈕即可運行，操作簡便
適用于工業(yè)現(xiàn)場，穩(wěn)定可靠
能夠滿足膜厚的常規(guī)測量，經(jīng)濟實用
產(chǎn)品參數(shù)
快速測量：最大典型12寸晶圓（即直徑300mm)
膜厚測量范圍：15nm-75μm (對Si上的SiO2樣品)
膜層數(shù)目：1-4層
膜厚測量重復(fù)性：0.1nm(對Si上100nm的SiO2樣品)
準確度：2nm或0.4%（對Si上的SiO2樣品）
膜厚測試儀，分為手持式和臺式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。
臺式的熒光X射線膜厚測試儀，是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值。
